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ULTRON ES-OVM-3

旋光异构体分离柱 ULTRON ES-OVM-3

ES-OVM系列中登场了填料的粒子径为3微米的ES-OVM-3,实现了高速、高性能的旋光异构体的分离。

What's new?

  1. 最大工作压力为30 Mpa。
  2. LC/ MS中也可以使用。
  3. 使用3μm的填料,可以得到更高的分离和理论塔板数。
  4. 保持着高理论塔板数,同时可以大幅度减少分析时间。
  5. 通过配管和流动池的最适宜化,可以进一步改善性能。
  6. 通过不同柱长和内径的结合,可以提供九种色谱柱。

ULTRON ES-OVM-3 系列

Applications Semimicro-LC Semimicro-LC
Conventional-LC
Conventional-LC
Column Size
Length x I.D. (mm)
50 x 2.150 x 3.050 x 4.6
100 x 2.1100 x 3.0100 x 4.6
150 x 2.1150 x 3.0150 x 4.6

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